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電廠鍋爐水為什么要測硅酸根(二氧化硅)的含量

更新時(shí)間:2023-03-24   點(diǎn)擊次數(shù):2624次

一:在鍋爐水的治理過程中,對硅的參數(shù)要求主要是針對鍋爐及節(jié)能方面。

硅是造成鍋爐及整個(gè)系統(tǒng)結(jié)垢的主要原因之一,結(jié)垢機(jī)理如下:

H2SiO3 ---> H++HSiO3-

MgOH++HSiO3----> MgSiO3+H2O

造成結(jié)垢的主要原因是:給水中鐵,鋁,硅的化合物含量高,形成硅酸鐵等垢。

NaSiO3+Fe3O4--> Na2Fe3O4.SiO2

 

1.2硅酸鹽容易結(jié)垢的地方主要為:鍋爐水冷壁、蒸發(fā)器等熱負(fù)荷較高的部位。熱負(fù)荷較高或水循環(huán)不良的爐管,火側(cè)的結(jié)垢比背火側(cè)嚴(yán)重,結(jié)垢后對鍋爐拱能系統(tǒng)造成的影響有:造成能源的浪費(fèi),容易形成垢下腐蝕,甚至爆管等安全現(xiàn)象。

 

防止的方法:降低給水中硅,鋁和其它氧化物含量;提高爐水pH,減小硅酸的溶解攜帶;定期檢測硅酸根含量

1.3硅酸根分析儀是一種其干微外理器的比色分析儀,可以依次對6個(gè)的獨(dú)立流路進(jìn)行采樣分析測量,被分析的樣水在一個(gè)固定的環(huán)路內(nèi)

環(huán)流,并能使樣水得到快速更新,流量的調(diào)節(jié)借助干一個(gè)閥門來實(shí)現(xiàn)。在分析的開始,樣水借助干一個(gè)電磁閥被引入測量槽內(nèi),用微

脈沖泵依次加入各種試劑,在反應(yīng)結(jié)束時(shí)執(zhí)行光度計(jì)測量,進(jìn)而轉(zhuǎn)換成硅酸根離子的濃度輸出。

二:隨著電廠的規(guī)定標(biāo)準(zhǔn)和除鹽凈水工程要求的提高,對酸根監(jiān)測的時(shí)效性和準(zhǔn)確性也大幅提高。為此,沃懋推出的T6060型硅酸根分析儀(Silica Analyzer),采用鼓氣式液壓加藥方式,冷光源分光測量,無死體積反應(yīng)池,保證了儀表測量的準(zhǔn)確性、可靠性。儀表外型結(jié)構(gòu)如圖所示。

2.1:儀器特點(diǎn)

采用鼓氣式液壓加藥方式,可實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)計(jì)量;

冷光源分光測量,延長了光源的使用壽命;

自動(dòng)調(diào)節(jié)光源的光強(qiáng),光源衰減后也可保證儀表測量的準(zhǔn)確度;

自動(dòng)控制反應(yīng)溫度,恒溫測量和校準(zhǔn);

大容量的存儲器,可保存6年測量數(shù)據(jù);

真彩色液晶屏,操作、顯示更加直觀;

6路隔離的電流輸出,可配置到任意通道、任意量程或PID;

6路繼電器輸出,可配置為超限報(bào)警、斷樣報(bào)警或系統(tǒng)故障報(bào)警;

RS485接口,可配置9600bps到57.6kbps,實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)監(jiān)測;

可查詢?nèi)我鈺r(shí)間段內(nèi)的曲線和測量報(bào)警。

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